【余承东提到中国正在研究EUV光刻机，怎么理解？】余承东在相关论坛发言时，提到国内正在开展EUV光刻机相关技术研究，但要分清两个关键概念：预研攻关 ≠ 已经造出来、不等于量产。EUV光刻机是全球工业领域复杂度最高的设备之一，涉及光学、精密机械、真空、光源、材料等上万项核心零部件，供应链高度全球化。
国内科研机构、相关企业，多年前就已经布局EUV技术的前沿研究，属于技术储备和攻关探索，这是公开的研发方向，不是突然启动。
他这段话的核心，是表达长期技术突围的决心：高端芯片全链条不能完全依赖外部，要坚持自主技术探索。但并没有说已经研发成功、能够落地制造芯片。
很多自媒体容易把“开展研究”直接渲染成“EUV光刻机即将问世”，属于过度解读。从技术预研到样机，再到稳定量产、成熟商用，中间还有漫长的技术验证、产业链配套的巨大难关。
我们在DUV领域持续推进迭代，而EUV属于下一代超高难度赛道，攻关是长期工程，需要整个国内产业链一步步补齐短板，不是短期就能实现突破。
你觉得EUV光刻机最难卡在光源还是精密光学镜头？评论区聊聊。
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